Cremorlab T.E.N. Cleansing Veil
Салфетки для снятия макияжа

7001 990

Очистить
Сравнить
Артикул: Н/Д Категории: ,

Описание

Cremorlab T.E.N. Cleansing Veil
Средство для снятия макияжа
 
Прекрасно и легко помогает снять любой макияж, снимает раздражения и увлажняет кожу во время очищения. Уникальный состав с использованием растительных и водных ингредиентов сохраняет водно-жировой баланс, глубоко питает и сохраняет кожу, обладает восстанавливающими свойствами. Не содержит минеральных масел, искусственных ароматизаторов и парабенов. Можно использовать для любого типа кожи.
 
Способ применения: Начиная с области скул, с помощью 1-2 салфеток, легкими круговыми движениями снизу вверх удалите макияж и загрязнения с области лица и глаз.
 
Активные компоненты:
 

  • Сок листьев алоэ
  • Экстракт листьев камелии китайской
  • Экстракт фукуса пузырчатого
  • Гамамелис виргинский (Гамамелис)
  • Экстракт коры / листьев / веток
  • Экстракт розмарина лекарственного (розмарин)
  • Экстракт портулака огородного
  • Экстракт подсолнечника однолетнего (подсолнечника)
  • Масло косточек арганового дерева
  • Экстракт центеллы азиатской
  • Экстракт красных водорослей (Гелидиум Картилагинеум)
  • Глицерин
  • Пантенол

Состав

Вода, Пропиленгликоль, Кокамидопропилбетаин, Глицерин, Полисорбат 20, Онсэн-Сюй, Пантенол, Хлорфенезин, Гиалуронат натрия, Сок листьев алоэ, Токоферола ацетат, Бутиленгликоль, Экстракт листьев камелии китайской, Экстракт фукуса пузырчатого, Гамамелис виргинский (Гамамелис) Экстракт коры / листьев / веток, Экстракт розмарина лекарственного (розмарин), Экстракт портулака огородного, Экстракт подсолнечника однолетнего (подсолнечника), Экстракт цветов ромашки лекарственной, Масло косточек арганового дерева, Экстракт центеллы азиатской, Экстракт красных водорослей (Гелидиум Картилагинеум), метилхлоризотиазолинон, Метилизотиазолинон, Полиаминопропил бигуаниде, Аромат.

Отзывы

Отзывов пока нет.

Будьте первым, кто оставил отзыв на “Cremorlab T.E.N. Cleansing Veil
Салфетки для снятия макияжа”

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *