Cremorlab O2 Couture Oxygenic Peeling Mask (Кислородная очищающая маска)

3 100

Сравнить

Description

Cremorlab O2 Couture Oxygenic Peeling Mask
Кислородная очищающая маска
 
Пилинг-маска с отшелушивающими ингредиентами растительного происхождения, действует, образуя пену из обогащенной кислородом формулы средства, которая эффективно и быстро отшелушивает поверхностный слой эпидермиса и активизирует процессы регенерации клеток. Одновременно пузырьки пены глубоко и мягко очищают поры и убирают остатки макияжа, естественным путем нормализуя процесс обновления клеток кожи. Запатентованное маркой соединение кислорода и экстрактов морских водорослей спирулины и планктона (Marine Oxygen Plasma™) позволяет доставлять кислород, минеральные вещества, которыми так богата вода источник Гюмжин, в глубокие слои кожи. Обеспечивает интенсивное увлажнение и антиоксидантную защиту, активизирует метаболизм кожи, восстанавливая ее защитные механизмы. Содержит AHA, PHA и BHA кислоты. Комплекс из растительных экстрактов ундарии перистой и гаултерии лежачей обладает очищающим, антибактериальным и увлажняющим эффектом, после применения кожа остаётся ровной, гладкой и свежей.
 
Не содержит парабенов, минеральных масел, бензофенона, спиртов, сульфатов и PABA. Для всех типов кожи, включая чувствительную.
 
Объем: 100 мл.
 
Способ применения: Нанести на сухую кожу круговыми массажными движениями. Оставить на 3 минуты до образования густой пены. Тщательно промыть теплой водой. Нанести тоник и крем.

Состав

Вода, Кокамидопропил бетаин, Динатрий кокоамфоацетат, Акрилат сополимер, Кокамид ДЭА, Поваренная Соль, Глицерин, Дисилоксан, Метил перфлюоробутул, ПЭГ-7 Глицерил кокоат, Пентилен гликоль, ПЭГ-400, Гидроксиэтилцеллюлоза, Ксантановая камедь, Феноксиэтанол, Аромат (Парфюм), Гликолевая кислота, Этилгексилглицерин, Этилгексил изононаноат, Изононилизононаноат, Полигидроксистеариновая кислота, Диметикон, Экстракт из листьев дерева нима, Салициловая кислота, Онсен-Суй, ТЕА-Кокоил глутамат, Бутеленгликоль, С12-15 Алкил бензоат, Этилгексил Гидроксистеарат, Изопентан, Кокамидопропил ПГ-димония хлорид фосфат, Масло Апельсина, Экстракт Кокцинии Индийской, Гексиленгликоль, Полисорбат 80, Масло Лаванды, Алкоголь, Масло Мандарина, Экстракт Алое, Экстракт Баклажана, Бетаин, Экстракт Базилика, Каприлил гликоль, 1,2-гександиол, масло Литсея Кубеба, Карнитин, Экстракт Куркумы, Экстракт Водорослей Кораллина, Хлорфенезин, Экстракт Ундарии перистой, Экстракт Планктона, Коффеин, Изофлавоны Сои, Аргинин ферулат, Экстракт Водоросли Спирулина, Кислород (0,1 ppm).

Reviews

There are no reviews yet.

Be the first to review “Cremorlab O2 Couture Oxygenic Peeling Mask (Кислородная очищающая маска)”

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *